灰分坩堝可在1650度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明灰分坩堝是拉制大直徑單晶硅，是發展大規模集成電路*的基礎材料。它具有高純度、耐溫性強、尺寸大、精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。
灰分坩堝的使用壽命很短，一般為75天左右，造成這一結果的原因是什么呢?新電解爐燥是影響灰分坩堝使用壽命的一種原因一般工廠目前電解爐搭建主要才料為耐火磚塊和冷搗素。
灰分坩堝與內膽間全部用冷搗素充填夯實，新爐搭建好后用打弧機打弧燥，靶材干燥時間一般為8-12小時，其間石墨坩堝長時間高溫暴露在空氣中，在強電弧光的輻射下，石墨坩堝內壁有4-6MM厚的石墨剝落，對灰分坩堝內壁損傷較為嚴重。建議改用石坐坩堝密封，二氧化碳氣體保護，鐵烙鋁加熱干燥坩堝。
在使用由石墨構成的石墨電極、石墨模具和石墨坩堝等材料時，要盡量避免高溫。
含碳(石墨)耐火材料石墨坩堝經烘烤后一般表面產生15mm以上的脫碳疏松層，靶材脫碳層在盛鋼后很快侵蝕掉。鋼廠的石墨電極損耗要占到鋼廠生產成本地十分之一以上，在高溫氧化實驗室看到，一個3公斤的灰分坩堝在高溫1600℃持續3個小時后，重量減輕了30%以上，也就是3公斤的石墨坩堝很快就變成了2公斤，氧化很快。石墨是比較貴重的材料，腐蝕氧化造成企業生產成本加大，能源材料浪費。
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